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    真空技術與設備1

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    真空技術是使氣體壓強低于地面大氣壓強的技術。真空是指壓力遠小于101.325千帕(kPa)(即1大氣壓)的稀薄氣體空間。在真空技術中除國際單位制的壓力單位Pa外,常以托(Torr)作為真空度的單位。1托等于1毫米高的汞柱... 查看詳情

    真空技術

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    真空技術講稿 查看詳情

    固定污染源排氣中二氧化硫(SO2)的測定

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    本標準規定了定電位電解法測定固定污染源排氣中二氧化硫濃度以及測定二氧化硫排放總量的方法。 查看詳情

    GB 13005-91 氣瓶術語

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    最詳盡和最權威的氣瓶術語解釋資料。 查看詳情

    2008晶圓級半導體特種氣體市場概況

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    半導體制程來了解氣體的應用,則薄膜制程會是相當大宗的使用部分,薄膜制程依照其成長方式之不同,可分金屬化濺鍍薄膜、CVD薄膜、磊晶,金屬化濺鍍(物理氣相沈積)主要應用在金屬層成長,如鋁、銅等,其原理是利用氬氣電漿轟擊金屬靶... 查看詳情

    創維半導體(深圳)有限公司環境影響報告書

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    創維集團是中國彩電龍頭企業之一,主要產品有:各類純平、等離子、液晶、數字高清、背投電視以及數字機頂盒等,作為國內彩電業惟一民營企業,創維一直堅持“走出去”戰略,出口曾連續8年居行業之首。2005財年,創維產銷彩電850萬... 查看詳情

    海力士-意法半導體12英寸模集成電路制造項目詳細評價

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    12英寸(40K/月)主要原輔材料的消耗一覽表序號 原料名稱 應用工段 每片消耗量(kg/片) 年消耗量(kg/a)1 硅片 - - 576000片2 光掩膜版 - - 329片3 ACT-935單乙醇胺(50~60%)... 查看詳情

    電子特種氣體-三氟化氮行業調研報告

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    報告摘要:  電子特種氣體是光電子、微電子等領域,特別是超大規模集成電路、液晶顯示器件、半導體發光器件和半導體材料制造過程不可缺少的基礎性支撐源材料。它的純度和潔凈度直接影響到光電子、微電子元器件的質量、集成度、特定技術... 查看詳情

    氧氣的工業制法

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    氧氣的工業制法 查看詳情

    特種氣體市場調查

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    中國《特種氣體市場調查》(上) 查看詳情
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