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廣州市譜源氣體有限公司
詳解電子氣體的主要用途
2018-5-2 15:10:47
隨著我國高新技術的快速發展，計算機工業對大規模集成電路、液晶顯示器的需求大量增加；隨著新型能源的發展，我國大力開拓了多晶硅太陽能電池和薄膜太陽能電池的生產；此外，新型電光源、光電半導體器件（GaAs、InP、AlGaAs）、光纖通訊器件也獲得迅猛發展，在上述高新產品的生產中，都需要大量高純氣體，以制造出性能可靠的各種器件。
用途一：大規模集成電路
化學氣相沉淀：SiH4，NH3，O2，N2O，TEOS（四乙氧基硅）
化學刻蝕：CF4，SF6，NF3，Cl2，CCl，BCl3，KrF，ArF，HBr，HCl
化學摻雜：BF3，B2H6，PH3，AsH3
用途二：液晶屏
化學氣相沉淀：SiH4，SiNx
化學刻蝕：SF6，HCl，Cl2
用途三：太陽能電池
化學氣相沉淀：SiH4，NH3，NF3
擴散、刻蝕：POCl3，O2，CF4
用途四：光電半導體
化學氣相沉淀：AsH3，PH3，NH3，N2，H2
化學刻蝕：BCl3，Cl2
用途五：光導纖維
化學氣相沉淀：SiH4，SiCl4，D2，GeCl4
化學刻蝕：CF4，KrF，ArF，Cl2，SF6
用途一：大規模集成電路
化學氣相沉淀：SiH4，NH3，O2，N2O，TEOS（四乙氧基硅）
化學刻蝕：CF4，SF6，NF3，Cl2，CCl，BCl3，KrF，ArF，HBr，HCl
化學摻雜：BF3，B2H6，PH3，AsH3
用途二：液晶屏
化學氣相沉淀：SiH4，SiNx
化學刻蝕：SF6，HCl，Cl2
用途三：太陽能電池
化學氣相沉淀：SiH4，NH3，NF3
擴散、刻蝕：POCl3，O2，CF4
用途四：光電半導體
化學氣相沉淀：AsH3，PH3，NH3，N2，H2
化學刻蝕：BCl3，Cl2
用途五：光導纖維
化學氣相沉淀：SiH4，SiCl4，D2，GeCl4
化學刻蝕：CF4，KrF，ArF，Cl2，SF6
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